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①鍍鉻液的主要成分不是金屬鉻鹽,而是鉻的含氧酸——鉻酸,屬于強酸性鍍液。電鍍過程中,過程復雜,電流大部分消耗在析氫及六價鉻還原為三價鉻兩個副反應上,故鍍鉻的電流效率很低。而且有三個異,F象:電流效率隨鉻酐濃度的升高而下降l隨溫度的升高而下降;隨電流密度的增加而升高。
②在鍍鉻液中,須添加一定量的陰離子,如SO42-、SiF62-、F-等,才能實現金屬鉻的正常沉積。
③鍍鉻液的分散能力很低,對于形狀復雜的零件,以得到均勻的鍍鉻層。對掛具的要求也比較嚴格。
④鍍鉻需采用較高的電流密度,通常在20A/dm2以上,比一般的鍍種高10倍以上。由于陰極和大量析出氣體,使鍍液的電阻較大,槽壓升高,對電鍍電源要求高,需采用大于12V的電源,而其他鍍種使用8V以下的電源即可。
⑤鍍鉻的陽極不用金屬鉻,而采用不溶性陽極。通常使用鉛、鉛一銻合金及鉛一錫合金。鍍液內由于沉積或其他原因而消耗的鉻需靠添加鉻酐來補充。
⑥鍍鉻的操作溫度和電流密度有一定的依賴關系,改變二者關系可獲得不同性能的鉻鍍層。
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